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为什么鼎点平台镀膜的时候需要抽真空?

作者:时间:2020-04-28 09:41:072448 次浏览

首先定性地说明一下,在进行鼎点平台蒸发镀膜时候为什么蒸发的空间需要抽真空.其原因如下,

1)防止在高温下因空气分子和蒸发源源发生反应,生成化合物而使蒸发源劣化。

2) 防止因蒸发物质的分子在真空室内与空气分子碰撞而阻碍蒸发分子直接打到鼎点平台基材表面,和在途中生成化合物或者由于蒸发分子间的相互碰撞而在到达鼎点平台基材之前就凝聚等。

3)防止在鼎点平台基材上形成薄膜的过程中,空气分子作为杂质混入膜内或者在薄膜中形成化合物。